[스크랩] 애플 콧대 꺾을 `삼성 비장의 무기`기술격차 2년 이상 벌려 ■ 삼성, 세계 첫 10나노급 낸드 양산

 

애플 콧대 꺾을 '삼성 비장의 무기' 기술격차 2년 이상 벌려 스마트폰 경쟁력 높아진다

■ 삼성, 세계 첫 10나노급 낸드 양산
스마트폰 원가 낮아지고
속도도 3배이상 빨라져
경쟁사 특허공세에 대응

김상용기자 kimi@sed.co.kr

입력시간 : 2012.09.11 17:54:05

수정시간 : 2012.09.12 09:24:31

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삼성전자가 세계 최초로 10나노급 낸드 대량 양산을 목전에 두면서 경쟁사와의 기술 격차를 최고 2년 이상 벌릴 수 있게 될 것으로 보인다. 이는 삼성전자가 한발 앞선 기술로 경쟁사를 압도하는 초격차 전략이 크게 작용하고 있다.

10나노급 기술은 기술적 한계로 여겨졌던 분야다. 해외 몇몇 업체가 기술 개발에 나서고 있으나 본격적인 양산에는 이르지 못하고 있다.

특히 삼성은 10나노 낸드 생산 기지를 한국과 중국에 건설될 시안 공장 등으로 이분화해 경쟁력을 더욱 높일 계획이다. 아울러 10나도 낸드는 현재 진행되고 있는 삼성전자와 애플 간 특허 분쟁에서도 새 변수로 작용할 가능성이 크다는 것이 전문가들의 설명이다.

업계의 한 관계자는 "삼성전자가 메모리 반도체와 애플리케이션 프로세서, 디스플레이 등에서 기술 선도력을 유지하는 한 애플의 부품 다변화 구상은 힘이 약해질 수밖에 없을 것"이라며 "10나노 낸드 기술 개발과 양산 준비는 또 다른 기술의 쾌거"라고 강조했다.

◇기술 전쟁에서 앞서 반도체=삼성전자의 10나노 낸드 양산 본격화는 삼성전자 반도체 사업부뿐만 아니라 스마트폰 경쟁력에도 직결되는 중요한 이벤트로 평가된다. 삼성전자가 10나노 양산 시점에 어떠한 규격을 적용하느냐에 따라 속도가 기존 20나노 제품 대비 3배 이상 빨라질 수 있다는 게 업계 전문가들의 평가다.

결국 10나노 기술 양산이 본격화될 경우 삼성전자는 기존 20나노 제품보다 생산성을 50% 높여 스마트폰 제조 원가를 낮출 수 있을 뿐만 아니라 스마트폰의 읽기 등의 속도를 3배 이상 높여 애플의 새로운 스마트폰의 경쟁력을 낮출 수 있기 때문이다.

증권 업계의 한 관계자는 "애플의 경우 모든 부품을 전 세계 정보기술(IT) 업체에 전적으로 의존하고 있는 상황에서 삼성전자의 기술력은 결코 무시할 수 없는 변수"라며 "삼성전자가 기술력을 통해 애플을 압박할 수 있는 카드가 결국 부품 경쟁력이라는 사실을 다시 한번 입증하게 될 것"이라고 설명했다.

◇기술 한계 극복한 10나노=삼성전자는 10나노 낸드 기술을 우선 국내에 최초로 적용해 올해 말까지 양산에 돌입한다는 계획이다. 이르면 11월 화성 공장 기존 낸드 라인을 10나노급으로 전환해 국내에서 처음으로 10나노 낸드를 생산할 예정이다.

아울러 중국 시안 공장에도 이 기술을 적용해 전세계 IT 제조 기지인 중국에서 기술력으로 정면 승부를 벌이겠다는 계획을 세워놓고 있다.

증권업계의 또 다른 관계자는 "당초 양산 목표가 지난 상반기였지만 다소 늦어진 것은 10나노급 기술 개발의 양산화 접목이 기술적 한계에 도전하는 작업인 까닭"이라며 "해외 경쟁사들이 쉽게 10나노 낸드 플래시 메모리 기술 개발과 양산에 도전하기 어려울 것"이라고 전했다.

일본의 도시바가 지난해 자체적인 기준으로 19나노 낸드를 개발했다고 하지만 아직까지 양산에 나서지 못하고 있는 것은 10나노 낸드의 대규모 양산이 그만큼 어렵다는 것을 말해준다는 게 업계의 평가다.

메모리 시장조사 업체인 D램 익스체인지에 따르면 낸드 부문에서 삼성전자는 지난 2ㆍ4분기에 시장점유율 42.4%로 도시바(22.6%)를 크게 앞지르고 1위를 유지했다. 지난 1ㆍ4분기까지 삼성전자(33.9%)와 도시바(32.9%)의 점유율 차이가 겨우 1%포인트에 불과했던 것과 비교할 때 삼성전자는 불과 3개월 만에 도시바의 점유율을 가져온 것으로 분석된다.

 

 

 

삼성전자, 10나노 낸드 11월 양산

김상용기자 kimi@sed.co.kr

입력시간 : 2012.09.11 17:53:48

수정시간 : 2012.09.11 21:29:17

삼성전자가 10나노급 낸드플래시 메모리 기술개발 성공에 이어 최근 실험생산까지 마쳐 이르면 오는 11월부터 본격 양산에 돌입한다. 삼성전자는 본격 양산을 위해 반도체 연구소 임직원을 실제 생산라인에 파견해 본격 양산을 위한 준비 작업에 돌입했다.

11일 관련업계에 따르면 삼성전자 반도체 연구소는 10나노급 낸드플래시 기술 개발과 연구소내 실험 생산 라인의 수율까지 끌어올린 뒤 세계 첫 양산을 위한 준비 작업에 착수했다. 연구소 내 임직원이 현재 양산중인 낸드 라인에 10나노급 기술을 적용하기 위한 작업을 진행 중이다. 삼성전자가 개발에 성공한 낸드플래시 미세공정 기술은 18나노로 알려졌다.

연구소 자체 실험 결과 수율 등을 포함한 생산성은 이미 검증됐지만 실제 양산에 어떤 미세 공정 기술이 적용될 지 여부는 아직 확정되지 않은 상태다.

반도체에서 20나노 이하의 미세공정은 기술적 한계로 평가되고 있으며 10나노 공정 기술은 그만큼 극복하기 어려운 기술이다. 삼성전자는 이번 10나노 낸드 양산을 앞두면서 경쟁사와의 격차를 최소 1년~2년 이상 벌이게 됐다.

업계의 한 관계자는 "삼성전자가 당초 지난 6월말까지 10나노급 낸드 양산까지 마무리할 예정이었지만 기술적인 한계에 직면하면서 당초 계획보다 늦어진 것으로 보인다"며 "중국의 미세공정기술이 많이 뒤쳐진데다 나노 기술은 유출 가능성이 적어 삼성전자가 중국에 과감하게 10나노 기술을 적용하는 것"이라고 설명했다.
한편 삼성은 12일 중국 산시성 시안에서 권오현 부회장 등이 참석한 가운데 낸드 플래시 생산을 공장 기공식을 가질 예정이다. 시안 공장은 해외 공장 가운데 가장 큰 규모로 10나노 생산기지로 활용될 예정이다.

 

출처 : 학성산의 행복찾기

글쓴이 : 학성산 원글보기

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